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        CIF粉體等離子清洗機CPCP-G系列

          CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。
        1. 詳細信息

        CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

        等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理化學性質,在保持粉體原有性能的前提下,賦予其表面新的性能,使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水變為疏水性,從而改善粉體粒子表面的浸潤性,增強粉體粒子在介質中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機化合物中。粉體材料表面改性是材料制備,新材料、新工藝和新產品開發的重要方法,提高了粉體材料的附加價值,擴大了粉體材料的應用領域。

        CIF推出CPCP-G系列新一代帶攪拌功能的專為處理粉體樣品的等離子清洗機,采用質量流量計MFC)氣體輸送控制。主要特點是專業、處理樣品量大、快速高效、動態清洗,處理均勻、無死角、無污染、氣體輸入準確。


        技術參數

        型號

        CPCP-G

        CPCP- Gplus

        艙體尺寸

        H120370mm ?

        H120370mm

        艙體容積

        12.8L

        12.8L

        石英轉瓶尺寸

        Φ286xH88mm

        Φ286xH88mm

        轉瓶轉速

        1-15rpm/秒可調

        1-15rpm/秒可調

        射頻電源

        40KHz

        13.56MHz

        匹配器

        自動匹配

        自動匹配

        射頻功率

        10-300W可調

        10-300W可調

        氣體控制

        質量流量計(MFC)(標配單路,可選雙路)

        產品尺寸

        L618xW520xH665mm


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